涂膠顯影

EVG 101涂膠/噴膠/勻膠系統(tǒng)
  • 產(chǎn)品品牌: 奧地利 EVG
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地: 奧地利
  • 應(yīng)用領(lǐng)域:
  • 產(chǎn)品簡(jiǎn)介: EVG 101是一款適合于研發(fā)的單腔晶圓涂膠顯影設(shè)備，可用于噴膠、旋涂和顯影，可在三維結(jié)構(gòu)晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆，并保持高均勻性

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

EVG 101是一款適合于研發(fā)的單腔晶圓涂膠顯影設(shè)備，可用于噴膠、旋涂和顯影，可在三維結(jié)構(gòu)晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆，并保持高均勻性。

主要特點(diǎn)及參數(shù)：

        ·最大可適用于12寸（300mm）晶圓

        ·手動(dòng)裝片，自動(dòng)噴涂/旋涂，自動(dòng)清洗腔室內(nèi)殘膠

        ·適用光刻膠范圍廣泛，粘度可達(dá)52000cp

        ·基片最大轉(zhuǎn)速：10000r/min