產(chǎn)品簡介：

EVG 610是一款入門級光刻機，支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式，可選配背面對準(zhǔn)模塊。也可用于鍵合對準(zhǔn)及納米壓印光刻（NIL），是科研開發(fā)用戶的理想選擇。

主要特點及參數(shù)：

       ·最大支持8英寸（200mm）晶圓

       ·頂部及底部對準(zhǔn)：

      頂部對準(zhǔn)精度≤±0.5μm

      底部對準(zhǔn)精度≤±2μm

      紅外對準(zhǔn)精度≤±2μm（取決于襯底材料）

      鍵合對準(zhǔn)精度≤±2μm

      納米壓印對準(zhǔn)精度≤±2μm

      ·支持汞燈或最新的UV-LED光源

      ·自動楔形補償程序

      ·可選配功能：

     鍵合對準(zhǔn)

     紅外對準(zhǔn)

     納米壓印光刻（NIL）