電子顯微鏡分析儀

QUANTAX Micro-XRF
  • 產(chǎn)品品牌: 布魯克 Bruker
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地: 德國
  • 應(yīng)用領(lǐng)域: 為目前可用的材料提供了最全面的成分和結(jié)構(gòu)分析
  • 產(chǎn)品簡介: 高速(大面積) X 射線元素面分析(薄膜厚度分析)

一、亮點

110ppm------檢測極限

由于XRF譜圖背景低于EDS譜圖,Micro-XRF可實現(xiàn)微量元素分析

24mm/s------移動速度

可選的快速樣品、支持大面積的高速面分析

31 nm - 40um層厚度范圍

可分析從1 nm40 um具有多層結(jié)構(gòu)的薄膜

4)微區(qū) XRF SEM EDS 分析的互補分析技術(shù)

a掃描電子顯微鏡(SEM)的微區(qū) X 射線熒光 (Micro-XRF) 技術(shù)是與傳統(tǒng)能量分散光譜(EDS)能力補充的無損分析技術(shù)。這種分析技術(shù)對于未知樣品中元素成分的表征非常重要,而未知樣品的尺寸可以從厘米尺寸的不均勻樣品到微米尺寸的顆粒

bX射線激發(fā)源為微量元素的檢測帶來了更高的靈敏度(對于某些元素,檢出限可低至 10ppm)。同時,光譜范圍可以拓延(高達40 keV)以及探測深度可以更深

c配備 X 射線管,結(jié)合微聚焦 X 射線光學器件,可產(chǎn)生 30 μm 的小束斑和高強度通量

d模塊化基于壓電的樣品臺,專門設(shè)計用于安裝在現(xiàn)有SEM 樣品臺上,使大面積高速元素X射線面分析"飛一樣地"運行,速度高達4毫米/秒。這使得在 50 x 50 mm(或更大)的樣本面積上采集 X 射線面分布數(shù)據(jù)成為可能。同時,輕元素光譜數(shù)據(jù)以及微量元素和/或更高能量的 X 射線數(shù)據(jù)也納入快速且用戶友好的工作流中

eX射線激發(fā)的樣品深度更深,這讓多層系統(tǒng)的表征成為可能。1 nm到高達40μm 的薄膜樣品均可以分析,而這是用電子束源激發(fā)無法實現(xiàn)的

 

  

二、優(yōu)勢

通過 Micro-XRF 和快速樣品臺擴展您的 SEM 分析能力

a雙束電壓,包括電子束和X射線束,這為材料表征提供了新的可能性 - 可以同時使用兩個束源來調(diào)查樣品

b使用相同的探測器同時進行電子束/微區(qū)XRF信號采集,包括輕元素光譜數(shù)據(jù),微量元素和/或更高能量X射線數(shù)據(jù)

cXTrace和 快速樣品臺 都無縫集成到 ESPRIT軟件中

dEDS 和 微區(qū)XRF 定量方法相結(jié)合,將電子激發(fā)的更好的輕元素靈敏度與 XRF 更好的微量元素表征靈敏度相結(jié)合,產(chǎn)生更完整的樣品表征結(jié)果

e與微區(qū) XRF 和 電子束同步面分析表征,結(jié)合兩個技術(shù)的優(yōu)勢。使用電子束激發(fā)較輕的元素(碳到鈉),使用微區(qū) XRF激發(fā)較重的元素

f剝離的譜峰峰值和擴展的光譜范圍讓用戶能夠看到高能量 K 線,因為它們不復(fù)雜且重疊峰更少

g幾乎不需要樣品制備 不導電樣品表面,也無需拋光

h包含無標樣和有標樣定量模型

i)um尺度且低濃度水平下,也能同時分析輕元素和重元素

 

 

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