產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

EVG 610是一款入門(mén)級(jí)光刻機(jī)，支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式，可選配背面對(duì)準(zhǔn)模塊。也可用于鍵合對(duì)準(zhǔn)及納米壓印光刻（NIL），是科研開(kāi)發(fā)用戶的理想選擇。

主要特點(diǎn)及參數(shù)：

       ·最大支持8英寸（200mm）晶圓

       ·頂部及底部對(duì)準(zhǔn)：

      頂部對(duì)準(zhǔn)精度≤±0.5μm

      底部對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm

      紅外對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm（取決于襯底材料）

      鍵合對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm

      納米壓印對(duì)準(zhǔn)精度≤±2μm

      ·支持汞燈或最新的UV-LED光源

      ·自動(dòng)楔形補(bǔ)償程序

      ·可選配功能：

     鍵合對(duì)準(zhǔn)

     紅外對(duì)準(zhǔn)

     納米壓印光刻（NIL）