光刻工藝

EVG 40NT是一款主要用于CD尺寸測量和鍵合對準(zhǔn)測量的設(shè)備，具有級高的精度，可作為EVG GEMINI FB中100nm鍵合精度的驗證工具
EVG 610（NIL）是一款基于EVG610光刻機的紫外納米壓印設(shè)備，可針對壓印、光刻、對準(zhǔn)功能進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換
單面/雙面光刻系統(tǒng)
測試與輔助工藝設(shè)備